Microscope à force atomique Park Systems NX-Wafer

Park Systems

LE système à faible bruit et fort throughput disposant de la fonctionnalité « Defect Review »

NX-WAFER

L’AFM Park Systems NX-Wafer est le seul AFM de ligne dédié au contrôle de wafer et disposant de la fonctionnalité de revue automatique de défauts. Cela lui donne la capacité d'augmenter le rendement de votre laboratoire jusqu'à 1000%, tout en assurant un haut niveau de précision et de contrôle de qualité lors de l’analyse de wafers jusqu'à 300mm.

 

-Solution AFM entièrement automatisée pour l'imagerie et l'analyse de défauts.

-Capacité de mesurer des wafers 300mm.

-Permet d’améliorer la productivité de revue de défauts jusqu'à 1000%.

-Faible niveau de bruit permettant des profils de mesure CMP plus précis.

-Mesures de rugosité de surface inférieures à l’angström.

-Variations minimales pointe à pointe.

 

 

SCANNER

XY : 100µm x 100µm

Z : 15µm

Bruit : < 0.05nm

 

ELECTRONIQUE

DSP : 600MHz ; 4800MIPS

ADC : 20 canaux 16bits

DAC : 21 canaux 16bits

 

STAGE

XY : 275x200mm (système 200mm) ; 400x300mm (système 300mm)

Z : 27mm

Focalisation : 9mm

Taille échantillon : wafers 200 / 300mm

 

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